錫是一種銀白色的金屬，無(wú)毒，具有良好的焊接和延展性等，廣泛應(yīng)用電子、食品、汽車(chē)等工業(yè)。電鍍錫溶液主要有堿性和酸性兩大類(lèi)，酸性體系中又分硫酸鹽、甲基磺酸體系及氟硼酸體系鍍錫等。酸性鍍錫工藝的特點(diǎn)是溶液穩(wěn)定、鍍層光亮度高、鍍液電流效率高，操作簡(jiǎn)便，但鍍液的分散能力差、二價(jià)錫易水解等。堿性鍍錫液穩(wěn)定且均鍍能力好，缺點(diǎn)是工作溫度高，電流效率低，不光亮等。甲基磺酸體系以其沉積速率高，廢水容易處理等優(yōu)點(diǎn)而被應(yīng)用到連續(xù)電鍍生產(chǎn)中。氟硼酸鹽鍍錫液成本比硫酸鹽鍍液高，還存在著氟化物的污染等缺點(diǎn)，目前幾乎不被使用。實(shí)際生產(chǎn)中應(yīng)用較多的是硫酸鹽、甲基磺酸體系的酸性光亮鍍錫工藝。酸性光亮鍍錫液雜質(zhì)的影響和去除酸性光亮鍍錫溶液一般比較穩(wěn)定，主要是 鍍液的黏度 和 渾濁度影響鍍液的性能。
鍍錫液中常見(jiàn)無(wú)機(jī)雜質(zhì)是陽(yáng)離子Cu2+、Fe2+、Cr6+、Sn4+等，陰離子Cl-、N03一等，這些雜質(zhì)主要來(lái)自于前道工序帶人及鍍件落入鍍槽所致。
四價(jià)錫是由二價(jià)錫氧化水解生成不溶性四價(jià)錫化合物，這種沉淀物，呈游離膠體，使鍍錫液渾濁，影響鍍液的穩(wěn)定性(Sn4+會(huì)形成偏錫酸)和鍍層質(zhì)量(鍍層容易產(chǎn)生麻點(diǎn))，為防止Sn2+的氧化，在停鍍時(shí)掛少量錫陽(yáng)極是必要的，可減少二價(jià)錫的氧化，還要盡量防止空氣對(duì)鍍錫液的氧化，生產(chǎn)中不能用空氣攪拌，盡量保持鍍液低溫狀態(tài)，使鍍液壽命延長(zhǎng)。去除四價(jià)錫可用專門(mén)的處理劑(SY-800)去除。
①銅離子可以使錫陽(yáng)極變黑，鍍錫層產(chǎn)生夾雜、發(fā)黑，用低電流密度電解處理；
②銻、砷使得鍍層變暗、孔隙率增加，可用低電流密度電解處理；
③氯離子可使鍍錫層產(chǎn)生針孔并影響鍍錫層的空隙率和釬焊性，鍍液中的Cl一離子不易去除，主要是防止其帶入，鍍前要用純水清洗，在鍍液中它們的含量可容度在0．59／L，也可用大電流密度電解處理降低氯離子的含量。
另外，鍍錫液中有機(jī)雜質(zhì)的積累和光亮劑的分解產(chǎn)物，會(huì)使鍍錫液渾濁和黏度增加，導(dǎo)致鍍錫層出現(xiàn)氣流和光亮范圍縮小，鍍層發(fā)霧。除了在工藝和操作上盡量少加 有機(jī)物，防止其加速分解外，要定時(shí)對(duì)鍍錫液進(jìn)行處理，處理時(shí)可適量加入凝絮劑，進(jìn)行充分?jǐn)嚢瑁缓蠹尤?9／L左右的粉狀活性炭(將活性炭用水調(diào)成糊狀)，要充分?jǐn)嚢?無(wú)需加熱)待其自然沉淀，最好靜置一夜，將上層較清鍍液先過(guò)濾，底部黏度較高的鍍液較難過(guò)濾，要用較長(zhǎng)的時(shí)間才能把沉淀分離去除。處理后的鍍液經(jīng)化驗(yàn)補(bǔ)充其基本成分的含量后，再加添加劑調(diào)整后就可以電鍍。
